雙面研磨機,雙面拋光機,平面研磨機
產品簡介 主要用途: 本機主要適用于石英晶片、光學晶體、玻璃等薄脆金屬或非金屬材料的雙面研磨,特別適用于高頻晶片的雙面研磨或拋光。
產品規(guī)格
1、研磨盤直徑(MM):φ394×φ245×16
2、理想研磨直徑(MM):φ75
3、加工件平面平行度:0.1U(φ10)
4、游輪參數(shù):公制M=2,Z=50
5、游輪數(shù)量:9個
6、研磨厚度:0.035mm(φ10)
7、主機功率:750W(Dc)
8、下研磨盤轉速(rpm):0~60
9、砂泵功率:90W
10、流砂形式:循環(huán)或點滴
11、設備外形尺寸(MM):700×1000×1700
12、重量(KGS):630
產品優(yōu)點
1、采用直流電機驅動,軟啟動、軟停止,平穩(wěn)可靠,沖擊小。
2、油壓升降齒圈,非常平穩(wěn),太陽輪下有墊片可調整位置,有效利用齒圈和太陽輪。
3、上盤設置了緩降,有效防止了薄脆工件的破碎。
4、通過使用電子預置計數(shù)器,研磨的圈數(shù)、要求可準確控制。
5、可以采用修盤方式修整研磨盤。
6、可與ALC(頻率監(jiān)控儀)連接。
雙面研磨機相關特點技術參數(shù)發(fā)展及最新的資訊